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等离子体清洗机去除晶圆光刻胶

等离子体清洗机去除晶圆表面光刻胶

等离子体清洗机在处理晶圆表面光刻胶时,等离子表面清洗能够彻底去除表面光刻胶和其余有机物,也可以通过等离子活化和粗化作用,对晶圆表面进行处理,能有效提高其表面浸润性。相比于传统的湿式化学方法,等离子体清洗机干式处理的可控性更强,一致性更好,而且能活化、粗化晶片表面,提高晶片表面的浸润性。


等离子清洗机Plasma Cleaner又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合,通过等离子清洗机的表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂.


等离子清洗机用于半导体IC; SMT;LCD等制造过程中表面清洁和表面改善功能。去除外表面残留的光刻胶,有机污染物,溢出的环氧树脂等;还可以对表面的性能进行活化,增加表面的焊接及封装能力…。等离子清洗机可以用于生产制造过程中,也可以用于FA或QA实验室中。





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