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半导体等离子清洗机 去胶设备

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产品名称: 半导体等离子清洗机 去胶设备
产品型号: GDR-100PR
产品展商: Guarder戈德尔
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简单介绍

等离子清洗机能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。


半导体等离子清洗机 去胶设备  的详细介绍

等离子清洗机在半导体行业的广泛应用,可有效去除表面污染物和颗粒,有利于提高导线键的强度,减少芯片分层的发生,提高芯片本身的质量和使用寿命,提高包装产品的可靠性。

等离子清洗机用于晶圆级封装前表面预处理、晶圆级键合前表面活化、光刻胶涂覆前表面活化、晶圆表面较小particle去除、表面有机残留去除等。

等离子清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机等离子清洗设备

等离子清洗机/等离子处理机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。通过等离子清洗机的表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。

 

 

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