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等离子去胶机 wafer晶圆除胶处理设备

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产品名称: 等离子去胶机 wafer晶圆除胶处理设备
产品型号: ICP500
产品展商: Guarder戈德尔
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简单介绍

等离子清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又通过其等离子表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。


等离子去胶机 wafer晶圆除胶处理设备  的详细介绍

等离子清洗机能各种基础材料活化表面,去污,提高亲润性,解决印刷,粘接不牢固问题;电子产品刻蚀,除胶,改善附着力
等离子清洗机英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机等离子清洗设备。等离子清洗机/等离子处理机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。

通过等离子清洗机表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。

等离子清洗机能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,低温处理,不损伤样品,等离子去胶机不但可以去除一般的光刻胶,还可以去除在等离子刻蚀过程中产生的残留聚合物。

晶圆光刻胶的去除,等离子清洗机起到关键作用!

等离子清洗机在去除光刻胶方面的具体用途:等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电消除、介质蚀刻、有机污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅可以彻底去除光致抗蚀剂和其他有机物质,而且可以活化和增厚芯片表面,提高芯片表面的润湿性,使芯片表面更有粘合力。


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